Dresden mausert sich zum 32-Nanometer-Mekka
In der Region Dresden sollen neue Technologien für Speicher- und Logikchipproduktion der nächsten Generation entstehen. Besonderer Fokus liegt auf den Fotomasken, über die Halbleiter belichtet werden.
Das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) fördert mit dem Verbundprojekt “Critical Dimension und Registration für die 32nm Maskenlithographie” (CDuR32) in den kommenden zweieinhalb Jahren die Halbleitertechnologien. Ziel ist, der Region Dresden, einen Vorsprung im Bereich moderner Masken zu verschaffen.
Partner im Verbundprojekt sind das Advanced Mask Technology Center (AMTC) in Dresden, das mittelständische Unternehmen Vistec Semiconductor Systems aus Weilburg und die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) in Braunschweig und Berlin.
Das im Rahmen der Hightech-Strategie der Bundesregierung geförderte Projekt CDuR32 ermöglicht den Partnern frühzeitige Kooperation in einem strategischen Forschungsbereich und eröffnet neue Chancen für den gesamten Standort. Eine zentrale Rolle spielt dabei die Dresdner AMTC als Lieferant der derzeit weltweit anspruchsvollsten Photomasken für die Halbleiterindustrie. Eine Photomaske ist sozusagen der “Urchip”, mit deren Hilfe die Strukturen in den Chipfabriken auf Mikrochips aufgebracht werden.
