Dresden mausert sich zum 32-Nanometer-Mekka
In der Region Dresden sollen neue Technologien für Speicher- und Logikchipproduktion der nächsten Generation entstehen. Besonderer Fokus liegt auf den Fotomasken, über die Halbleiter belichtet werden.
Im Rahmen des Verbundprojektes werden Maskentechnologien für die 32nm-Speicherchip- und die 22nm-Logikchip-Generation entwickelt. Diese Technologien sind nötig für die übernächste Chipgeneration, die voraussichtlich ab 2012 in Dresden produziert wird.
Das Projekt mit einem Umfang von 16,7 Millionen Euro wird vom BMBF mit 7,9 Millionen Euro gefördert. Das AMTC untersucht und erarbeitet die Grundlagen für die Maskenfertigung der 32/22nm-Technologie. Vistec Semiconductor Systems entwickelt eine neue Generation von Messgeräten für die neuen Masken. Die PTB bringt die messtechnischen Möglichkeiten sowie neuen mathematischen Auswertungsverfahren als Beitrag zu Lösungen bei der Qualitätssicherung der Masken ein.
